紫外線光(guang)(guang)刻機(ji)是(shi)印制(zhi)(zhi)板制(zhi)(zhi)造工藝中的重(zhong)要(yao)設(she)備。傳統(tong)光(guang)(guang)刻機(ji)的玻(bo)(bo)璃(li)-邁(mai)拉曬架(jia)(jia)在生(sheng)產(chan)(chan)過程(cheng)中需(xu)要(yao)人(ren)工趕氣,邁(mai)拉膜需(xu)要(yao)經(jing)常(chang)更換。由于(yu)冷(leng)卻(que)系(xi)統(tong)過于(yu)臃腫,使得(de)其生(sheng)產(chan)(chan)成本高、效(xiao)率低,已不(bu)能滿足PC B 生(sheng)產(chan)(chan)的需(xu)要(yao)。在實驗(yan)基礎上設(she)計了雙玻(bo)(bo)璃(li)曬架(jia)(jia)光(guang)(guang)刻機(ji)，改進了其主要(yao)組成部分,包括(kuo)曬架(jia)(jia)系(xi)統(tong)、光(guang)(guang)路(lu)系(xi)統(tong)、冷(leng)卻(que)系(xi)統(tong)以及電(dian)氣和控制(zhi)(zhi)系(xi)統(tong)的整體設(she)計。
該(gai)光刻機(ji)可廣泛用(yong)于MEMS和(he)光電子，例如(ru)LED生產。它經過**設(she)計，方(fang)便處理各種(zhong)非標(biao)準(zhun)(zhun)基片、例如(ru)混合、高頻(pin)元(yuan)件(jian)(jian)和(he)易碎(sui)的(de)***族(zu)材(cai)料，包括砷化(hua)鎵和(he)磷化(hua)銦。而(er)且該(gai)設(she)備可通(tong)過選(xuan)配升級套件(jian)(jian)，實(shi)現紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨(bian)率掩模對(dui)準(zhun)(zhun)光刻，特(te)征尺(chi)寸優于0.5微米、裝(zhuang)配SU**的(de)單視場(chang)顯(xian)微鏡(jing)(jing)或分視場(chang)顯(xian)微鏡(jing)(jing)，實(shi)現快速準(zhun)(zhun)確對(dui)準(zhun)(zhun)、針對(dui)厚膠工藝進(jin)行(xing)優化(hua)的(de)高分辨(bian)光學系(xi)統、可選(xuan)配通(tong)用(yong)光學器件(jian)(jian)，在不(bu)同(tong)波(bo)長間進(jin)行(xing)快速切換等。
采(cai)用三柔性(xing)(xing)支(zhi)點實(shi)現高精度(du)自動調(diao)平；真空接觸自動曝(pu)光；樣片升降、調(diao)平、接觸、曝(pu)光、復(fu)位實(shi)現自動化控制(zhi)；采(cai)用積木錯(cuo)位蠅(ying)眼透鏡實(shi)現高均勻照(zhao)明；可連(lian)續設定分離間隙；采(cai)用雙目雙視(shi)場顯(xian)微鏡實(shi)現高對準精度(du)。整(zheng)機具有性(xing)(xing)能可靠、操(cao)作方便、自動化程度(du)高等(deng)特(te)點。
當前位置：
地址：安徽省合肥市經開區尚澤大都會A座2214
郵箱：1053185136@qq.com
傳真：